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3月5日，國家知識產(chǎn)權局發(fā)布2020年工作要點，內(nèi)容共涉及九大方面。重點提到：繼續(xù)做好專利法修改，推動落實新修訂的商標法，加快出臺商標侵權判斷標準，繼續(xù)提高知識產(chǎn)權審查質量和審查效率。到年底將高價值專利審查周期壓減到16個月以內(nèi)，商標注冊平均審查周期壓縮至4個月以內(nèi)，提升實用新型和外觀設計審查質量，確保專利審查質量用戶滿意度指數(shù)處于滿意區(qū)間。推動專利審查和檢索系統(tǒng)智能化升級工作取得新進展。完善集中審查、優(yōu)先審查、專利審查高速路、延遲審查等模式，滿足多樣化需求。形成打擊非正常專利申請和商標惡意注冊、囤積行為的長效機制。推動各地全面取消實用新型、外觀設計和商標申請注冊環(huán)節(jié)的資助與獎勵。

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來源：IPRdaily